美光獲2000億日元補貼用于生產新一代內存芯片
日本這兩年已把半導體作為重點來抓，除了重金支持國內公司量產2nm工藝之外，還拉攏了臺積電、三星、Intel等全球半導體7大巨頭在日本投資建廠，其中美光就獲得了2000億日元補貼。
據報道，日本方面給予美光2000億日元的補貼，約合15億美元，主要用于采購EUV光刻機，安裝在日本廣島地區(qū)的芯片工廠，用于生產新一代內存芯片。
美光在獲得巨額補貼之后，也投桃報李，宣布在日本增加5000億日元的投資，用于生產下一代DRAM內存芯片，也就是1-gamma節(jié)點工藝的。
在內存工藝進入10nm級別之后，生產制造也越來越困難，需要先進的EUV光刻機，三星、SK海力士兩大內存公司都已經在14nm節(jié)點之后轉向EUV光刻工藝。
按照美光的計劃，從2025年起會加大生產1-gamma節(jié)點內存的生產力度。
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